오야마, 일본--(Business Wire/뉴스와이어) 2017년 09월 12일 -- 반도체 리소그래피 광원의 주요 제조업체인 기가포톤 주식회사(본사: 토치기현 오야마시, 대표이사 사장: 우라나카 카츠미)가 최신 광학 설계 제조기술(=Cutting Edge Solution)을 도입한 스펙트럼 폭 제어기술 ‘hMPL’을 개발했다고 발표했다. hMPL은 이미 칩 제조업체의 실기평가(pilot experiment)에서 높은 평가를 받았으며 향후 최첨단 반도체 제조 애플리케이션에 대응해 나갈 예정이다.

반도체 리소그래피 공정에서 스펙트럼 폭은 가장 중요한 파라미터 중 하나인데 기가포톤의 hMPL은 LNM(협대역화 모듈)의 광학적인 열부하를 절감하여 스펙트럼 폭 목표치를 종래의 300fm(펨토미터)에서 200fm로 축소했다. 또한 새로운 제어 알고리즘을 도입함으로써 상한치를 450fm까지 확대를 가능하게하였다.

hMPL의 메리트는 두 가지이며 첫 번째는 종래보다 스펙트럼 폭을 좁게 할 수 있기 때문에 콘트라스트가 향상되어 프로세스 윈도우가 넓어진다. 두 번째는 스펙트럼 폭을 변경할 수 있기 때문에 노광장치 간의 콘트라스트 차이를 조정할 수 있다. 이것은 IoT용 반도체 제조처럼 종래의 노광장치와 새로운 노광장치를 동시에 사용할 경우에 유효한 수단이 된다. 이러한 장점으로 인해 hMPL은 노광 프로세스의 여유폭을 향상시켜 프로세스의 최적화 및 칩의 생산성 향상에 기여한다.

더하여 hMPL은 2017년 말에 출하 예정인 GT65A*에 표준 탑재된다.

대표이사 사장 우라나카 카츠미는 “스펙트럼 폭 제어기술 ‘hMPL’은 IoT 사회의 발전으로 인해 앞으로 더 늘어날 것으로 예상되는 반도체 수요에 대응하기 위해 개발되었으며. 당사는 앞으로도 최첨단 기술로 고객을 지원하면서 반도체 업계에 기여해 나가겠다”고 말했다.

*GT65A에 관한 보도자료는 http://www.gigaphoton.com/ja/news/4938 참조

기가포톤(Gigaphoton) 개요

기가포톤은 2000년 설립 이래 레이저 공급업체로서 반도체 제조사에 가치 있는 솔루션을 제공해왔다. 기가포톤은 초기 연구개발 단계부터 제조, 판매, 보수서비스에 이르기까지 사용자의 시각을 반영한 세계최고수준의 지원을 제공하고자 최선을 다하고 있다. 자세한 사항은 웹사이트(www.gigaphoton.com)에서 확인할 수 있다.

비즈니스 와이어(businesswire.com) 원문 보기: http://www.businesswire.com/news/home/20170911005365/en/